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國望光學(xué)光刻機曝光系統(tǒng)生產(chǎn)基地項目獲新進展,三家企業(yè)位列中標(biāo)候選人

2022-03-08 13:37 來源:IT之家 作者:蘭心雪 閱讀量:16402 

北京市公共資源交易服務(wù)平臺日前發(fā)布《投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)研發(fā)及批量生產(chǎn)基地項目潔凈工程中標(biāo)候選人公示》,四聯(lián)智能技術(shù)股份有限公司等三家企業(yè)位列中標(biāo)候選人。

國望光學(xué)光刻機曝光系統(tǒng)生產(chǎn)基地項目獲新進展,三家企業(yè)位列中標(biāo)候選人

公開資料顯示,該生產(chǎn)基地建設(shè)單位為北京國望光學(xué)科技有限公司,經(jīng)營研發(fā)核心團隊成員來自國內(nèi)唯一一家超精密光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)化技術(shù)研發(fā)單位 —— 長春國科精密國望光學(xué)基本定位是建立我國自主的超精密光學(xué)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研發(fā)與生產(chǎn)體系,形成極大規(guī)模 IC 制造投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng),高端精密光學(xué)儀器與裝備的批量生產(chǎn)供貨能力,從根本上解決我國 IC 制造投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)及高端精密光學(xué)裝備的產(chǎn)業(yè)化問題

國望光學(xué)研發(fā)生產(chǎn)基地位于北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),規(guī)劃建筑面積 12 萬平方米,預(yù)計 2023 年投入運行后,將擁有 350/280nm 節(jié)點,90/110nm 節(jié)點,28nm 及以下節(jié)點極大規(guī)模 IC 制造投影光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)品的研發(fā),設(shè)計與批量生產(chǎn)供貨能力。

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